Indium bringt rotierbare Sputter-Targets für Kupfer-Gallium auf den Markt. Sie würden mit einer aus Raumfahrtanwendungen stammenden Pulvermetallurgie hergestellt. Die Targets bestünden aus einer homogenen Legierung, die nur sehr wenig verunreinigt sei. Auch die Dichte sei ausreichend. Die Targets, von denen im Sputterprozess das Material abgetragen und auf die Oberfläche aufgebracht wird, die beschichtet werden soll, könnten mit 50 bis 80 Prozent Kupferanteil am Gewicht hergestellt werden. Der Galliumanteil richtet sich danach, wie viel nötig ist, damit sich eine Legierung bildet.
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Interessant, dass es diese neue Kupfer-Gallium-Legierung gibt. Ich frage mich wie genau diese Pulvermetallurgie funktioniert. Vielleicht funktioniert das ja sogar im Kammerofen.