Die Forscher haben ein neues Verfahren zur Vorderseitenmetallisierung eingesetzt, um eine III-V-Galliumarsenid-Solarzelle herzustellen. Für die Masken und Platten verwendeten sie ein neues zweistufiges Druckverfahren, das Berichten zufolge die Realisierung extrem schmaler Maskenöffnungen ermöglicht.
Den neuen Rekordwert erreichten die Forscher bei einer direkt auf Silizium gewachsenen III-V/Si-Tandem-Solarzelle. Diese sei erstmals auf einem kostengünstigen Siliziumsubstrat hergestellt worden, was die Forscher als wichtigen Meilenstein auf dem Weg zu wirtschaftlichen Lösungen für die Tandem-Photovoltaik werten.
Gemeinsam mit der Firma EVG hat das Fraunhofer ISE jetzt einen Wirkungsgraderfolg bei seinen Mehrfachsolarzellen von 33,3 Prozent erzielt. Der Clou bei der Zelle ist die ultradünnen II-V-Halbleiternschicht. Bis zur Serienfertigung werden jedoch noch einige Jahre vergehen.